镍钒溅射靶材是在制备镍钒合金的过程中, 在镍熔体中加入钒, 使制备出的合金更有利于磁控溅射, 结合了镍溅射靶材和钒溅射靶材的优点. 随着社会的进步和半导体产业的发展, 电子及信息、 集成电路、 显示器等产业对镍钒靶材的需求量越来越大.

溅射靶材集中用于信息存储、 集成电路、 显示器、 汽车后视镜等产业, 主要用于磁控溅射各种薄膜材料. 磁控溅射是一种制备薄膜材料的方法, 利用离子源产生的离子, 在真空中加速聚集成高速离子流 , 被加速的粒子流轰击到待沉积薄膜的物体表面, 离子和待沉积薄膜的物体表面的原子发生动能交换, 在待沉积薄膜的物体表面沉积上了纳米 ( 或微米 ) 薄膜. 而被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料 , 称为溅射靶材 .

在集成电路制作中一般用纯金作表面导电层, 但金与硅晶圆容易生成 AuSi 低熔点化合物, 导致金与硅界面粘结不牢固, 人们提出了在金和硅晶圆的表面增加一粘结层, 常用纯镍作粘结层, 但镍层和金导电层之间也会形成扩散, 因此需要再有一阻挡层, 来防止金导电层和镍粘结层之间的扩散. 阻挡层需要采用熔点高的金属, 还要承受较大的电流密度, 高纯金属钒能满足该要求 . 所以在集成电路制作中会用到镍溅射靶材、 钒溅射靶材、 金溅射靶材等.

镍钒溅射靶材是在制备镍钒合金的过程中, 在镍熔体中加入钒, 使制备出的合金更有利于磁控溅射, 结合了镍溅射靶材和钒溅射靶材的优点, 可一次完成溅射镍层( 粘结层) 和钒层( 阻挡层) . 镍钒合金无磁性, 有利于磁控溅射 . 在电子及信息产业中, 基本替代了纯镍溅射靶材.镍钒合金靶材的特点及应用

镍钒合金靶材主要用于太阳能行业, 电子行业等领域.镍钒靶材的应用及要求的纯度如表 1 所示.

1)光存储 .

2) 太阳薄膜电池.

3) 平板显示器镀膜.

4) 电子及半导体领域.

5) 建筑玻璃.

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